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  • 為什么PVD鍍膜要在真空環境下進行
  • 來源:http://renaibj.cn發布日期:2016-11-25 09:16 瀏覽次數:

  PVD的全稱是Physical Vapor Deposition,即物理氣相沉積。是一種物理狀態下的物質轉移過程,可以將原子或分子狀態下的物質從一個物體轉移到另一個物體上,從而使其具有更加優異的性能。

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  PVD鍍膜可以在真空環境下進行,這項技術稱為PVD凯发k8手机。金屬在真空環境下與各種氣體產生綜合作用形成等離子體,經過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。這層膜細密均勻,結合力強,硬度高,防腐耐磨,具有良好的導電性和自潤滑性能,同時色澤豐富多樣。

  而且,由于PVD凯发k8手机是在真空環境下進行,而真空中的大物分物質已被排出,所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小,顏色就不會雜亂,也沒有膜層脫落的后顧之憂。

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